waarop op de opnamen een station wordt af
gebeeld de invloed van bv. refractie, verteke
ning, aardkromming, filmdeformatie van de
zelfde grootte zijn. Het is niet reëel te veron
derstellen dat het zojuist genoemde verschil
van 12 micron door deze factoren verklaard
kan worden.
Wel is getracht uit de verschillen tussen de fo-
togrammetrische dakrandmetingen en de ter-
restrisch bepaalde referentielijn de invloed van
de zonnestand op deze meting te beschrijven.
Hierbij bleek duidelijk, dat niet van een alge
mene, voor alle waarnemers identieke, invloed
kan worden gesproken. Scherper: uit dit onder
zoek blijkt niet dat de zonnestand van enige
invloed is op de fotogrammetrische meting van
dakranden.
Door gebruik te maken van de t-toets en de
F-toets is vastgesteld, dat twee waarnemers van
eenzelfde instituut (zeven instituten zetten twee
waarnemers in!) in het algemeen de te meten
elementen van gebouwen op dezelfde wijze in
terpreteren, met dien verstande, dat praktisch
al deze waarnemingsgroepen systematische af
wijkingen vertonen, die weliswaar van instituut
tot instituut verschillen. Dit laatste blijkt on
dermeer uit het volgende: De standaardafwij
kingen in de planimetrie
m V M(m2x m2y)
voor het totaal van de fotogrammetrische
waarnemingen, zijn per puntsoort a, b,c,dene
voor zowel de meetnauwkeurigheid M, als de
relatieve nauwkeurigheid R, de absolute nauw
keurigheid A en de systematische afwijking S
vermeld in tabel 2. Hieruit is af te leiden, dat
de verhouding tussen deze waarden voor de b-,
c- en d-punten enerzijds en de a-punten ander
zijds voor de meetnauwkeurigheid M ongeveer
2 is en voor elk van de nauwkeurigheden R,
A en S ongeveer 4 a 5. Dat reeds voor de re
latieve nauwkeurigheid deze verhoudingsgetal
len in de grootteorde 4 liggen is een aanwijzing
dat er per instituut sprake is van een systema
tische fout.
De oorzaak hiervan kan misschien liggen in het
feit, dat beide waarnemers van één instituut
dezelfde scholing hebben, dan wel dat er tij
dens de meting sprake is geweest van een we
derzijdse beïnvloeding. Tot nu toe is het in elk
geval niet mogelijk gebleken om achter de wer
kelijke oorzaken van deze systematische afwij
kingen te komen. Het feit dat er bij sommige
waarnemers sprake blijkt te zijn van een ver
houdingsgewijs kleine systematische fout, geeft
aanleiding tot de veronderstelling dat in het ka
der van de opleiding hieraan iets gedaan kan
worden.
vb
Om te kunnen vaststellen welke invloed de
fotoschaal heeft op de nauwkeurigheid van de
fotogrammetrische waarnemingen zijn de ver
houdingsgetallen berekend van de standaard
afwijkingen in de planimetrie (in microns op
de foto) van de 1 6.000-metingen en de
1 3.500-metingen (zie tabel 3). Hieruit blijkt,
dat verhoudingsgewijs de meting in de 1 6.000-
opnamen iets nauwkeuriger is dan die in de
1 3.500-opnamen.
Wanneer tenslotte de balans wordt opgemaakt,
dan moet worden gesteld, dat dit onderzoek
enerzijds op een aantal van de gestelde vragen
een antwoord heeft gegeven maar dat het an
derzijds ook enkele nieuwe vragen in het
bijzonder inzake de systematische afwijkingen
heeft opgeroepen.
Voor de praktijk van de grootschalige foto
grammetrische kaartering moet echter worden
geconcludeerd, dat dit onderzoek heeft aange
toond, dat de fotogrammetrische opmeting van
gebouwen met voldoende nauwkeurigheid (17
micron!) kan geschieden. In dit opzicht is dit
een bevestiging van de voorlopige conclusie
van drie jaar geleden.
Tabel 2:
Standaardafwijkingen in de planimetrie (in cm).
298
Va
Vc
Va
Ve
M
1.2
1.3
1.4
R
0.9
1.0
1.0
0.9
0.8
A
0.8
0.9
1.0
0.9
S
0.7
0.8
1.0
0.9
Tabel 3:
Verhoudingsgetallen V van standaardafwijkingen pla
nimetrie 1 6.000- en 1 3.500-metingen.
Fotoschaal
1 6.000
a
b
Puntsoort
c
d
e
M
2.0
4.4
3.2
R
2.2
11.7
8.4
8.5
5.0
A
3.0
13.0
11.2
9.9
S
1.5
8.5
8.6
6.7
Fotoschaal
1 3.500
a
b
Puntsoort
c
d
e
M
1.0
2.8
1.8
R
1.4
6.8
5.0
5.3
3.8
A
2.2
8.2
6.6
6.2
S
1.2
6.0
5.5
4.5
